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? ? ?半导体清洗机湿式清洗制程中，绍兴半导体清洗设备，主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项，晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学药品与清洗设备，宁波半导体清洗设备，清除来自周遭环境所附着在晶圆表面的脏污，半导体清洗，以达到半导体组件电气特性的要求与可靠度。
? ? ? 在清洗工艺中，去除刻蚀后的光刻胶残渣是半导体行业的一大技术难点，台州半导体清洗设备，尤其是经过高浓度离子注入的光刻胶，注入的阳离子和光刻胶中的碳形成很强的化学键，使光刻胶表面高度交联，形成一层高度致密、耐腐蚀的碳化硬壳，大大增加了光刻胶的去除难度。
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