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? ? ? 在清洗工艺中，去除刻蚀后的光刻胶残渣是半导体行业的一大技术难点，半导体清洗设备厂家，尤其是经过高浓度离子注入的光刻胶，注入的阳离子和光刻胶中的碳形成很强的化学键，使光刻胶表面高度交联，半导体清洗设备，形成一层高度致密、耐腐蚀的碳化硬壳，大大增加了光刻胶的去除难度。
清洗的注意事项：
(1)当有酸性或强腐蚀性溶液（酸、双氧水）不小心溅到皮肤上时，半导体清洗设备哪家好，应立即用无尘布（或无尘纸）轻轻擦掉。然后用清水冲洗。 (2)当吸入过量有机物（、异），感到头晕、恶心时。一定要向班报告，情形严重的立即就医。
? ? ??晶圆清洗是半导体制造典型工序中常应用的加工步骤。就硅来说，清洗操作的化学制品和工具已非常成熟，半导体清洗设备价格，有多年广泛深入的研究以及重要的工业设备的支持。所以，硅清洗技术在所有具实际重要性的半导体技术中是为成熟的。第*一个完整的、基于科学意义上的清洗程序在1970年就提出了，这是专门设计用于清除si表面的微粒、金属和有机污染物。
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