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有机溶剂清洗:
? ? ??从溶解的相似相溶规律出发，清洗设备，一般采用--清洗，晶圆清洗设备，或采用-混液和异代替。采用-是因为这种混合液的挥发性强，采用异是因为异的脱脂能力强。为降低这些有机溶剂本身在mcp表面的残留，碱腐蚀清洗设备，在每次使用有机溶剂后都要用超纯水进行漂洗。在不破坏mcp表面特征的情况下可结合搅拌、鼓泡、溢流、喷淋、超声、蒸汽脱脂等方法一起使用。
? ? ??半导体清洗机设备生产线用于pi coat前清洗设备，描述了lcd生产线（以cstn为主）上使用的pi coat清洗设备的主要清洗艺流程及设备的主要组成部分，包括清洗、漂洗、气刀、风干、ir、uv清洗干燥、cp降温、冷却干燥等。
超声清洗：
? ? ?对不同材料及孔径的mcp应采用频率、声强可调的超声波进行实验，半导体清洗设备，以确定实际工艺参数。对孔径6~12μmmcp的清洗，当媒液为水和时，可采用空化阈约1/3w/cm2，声强10~20 w/cm2，频率20~120 khz的超声波进行清洗。
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